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單流體加熱制冷裝置使用注意事項

簡要描述:單流體加熱制冷裝置使用注意事項,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-575
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-11
  • 訪  問  量:1044
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區間5萬-10萬
產地類別國產應用領域醫療衛生,化工,生物產業,石油,航空航天

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置, 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。 

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

單流體加熱制冷裝置使用注意事項

單流體加熱制冷裝置使用注意事項

 

  單流體加熱制冷裝置的整個液體循環是密閉的,帶有膨脹容器,膨脹容器和液體循環是絕熱的,并不參與液體循環,只是機械的連接,不管液體循環的溫度是高溫還是低溫,膨脹容器中的介質都低于60度。整個液體循環也是密閉的系統,可做到低溫時沒有水汽的吸收,高溫時沒有油霧的產生。

    1、在使用單流體加熱制冷裝置之前在槽內應加入液體介質(純水,酒精,防凍液也可),介質液面應沒過槽內制冷盤管并低于工作臺20mm為宜;

  2、電源:220V50Hz,電源功率應大于儀器的總功率,電源必須有良好“接地”裝置;

  3、避免酸堿類的物質進入槽內腐蝕盤管以及內膽;儀器應安置于干燥通風處,儀器周圍300mm內無障礙物;

  4、液體外循環時,客戶應特別注意引出管連接處的牢固性,嚴防脫落,以免液體漏出;

  5、經常注意觀察槽內液面高低,當液面過低時,應及時添加液體介質;使用完畢,所有開關置于關閉狀態,切斷電源;

  6、當單流體加熱制冷裝置工作溫度較低時,應注意不要開啟上蓋,手勿進入槽內,以防凍傷;

  7、儀器應做好經常性清潔工作,長久不用,清空槽內的介質,并且擦拭干凈,保持工作臺面和操作面板的整潔。

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